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“去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)”参数说明
| 认证： | ISo9000/14000/18000 | 化学成分： | 有机缓蚀剂 |
| 类型： | 混合型缓蚀剂 | 保护膜类型： | 氧化膜型 |
| 形态： | 液态 | 型号： | EL级，AR级 |
| 规格： | EL级，AR级 | 商标： | 博洋 |
| 包装： | 可定制 |
“去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)”详细介绍
去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)
去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)
去光阻液：一种用于去除光阻残留物的清洗液。该去除光阻残留物的清洗液含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂以及聚醚改性有机硅。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
在通常的半导体制造工艺中，通过在一些材料的表面上形成光刻胶的掩膜，曝光后进行图形转移，在得到需要的图形之后，进行下一道工序之前，需要剥去残留的光刻胶。在这个过程中要求完全除去不需要的光刻胶，同时不能腐蚀任何基材。
主要用途：有机合成原料，有机溶剂，电子工业清洗剂
包装：25L/桶、4L/桶，也可以按客户要求定制包装。
苏州博洋化学股份有限公司
免费热线：400-7676-300
联系人：周小姐
联系电话：180 6800 7231
0512-82257299-818
公司地址：苏州市高新区浒关工业园华桥路155号
公司网址：www.sz-by.com
去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)
去光阻液：一种用于去除光阻残留物的清洗液。该去除光阻残留物的清洗液含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂以及聚醚改性有机硅。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
在通常的半导体制造工艺中，通过在一些材料的表面上形成光刻胶的掩膜，曝光后进行图形转移，在得到需要的图形之后，进行下一道工序之前，需要剥去残留的光刻胶。在这个过程中要求完全除去不需要的光刻胶，同时不能腐蚀任何基材。
主要用途：有机合成原料，有机溶剂，电子工业清洗剂
包装：25L/桶、4L/桶，也可以按客户要求定制包装。
苏州博洋化学股份有限公司
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